Υποστρώματα γυάλινων δίσκων κριτικής οπτικής επίπεδης επιφάνειας για αποθέματα λεπτών ταινιών

Υποστρώματα γυάλινων δίσκων κριτικής οπτικής επίπεδης επιφάνειας για αποθέματα λεπτών ταινιών

Υλικό

• Γυαλί υψηλής καθαρότητας: Συνήθως κατασκευάζεται από λιωμένο πυρίτιο (JGS1/JGS2), βοροσιλικικό ή χαλαζία, επιλεγμένο για εξαιρετικά χαμηλή θερμική επέκταση και χημική αδρανότητα.

  • Συσταμένο πυρίτιο: Προτιμάται λόγω της εξαιρετικής ομοιογένειας, της χαμηλής περιεκτικότητας σε OH και της αντοχής σε θερμικά σοκ.

  • Βοροσιλικικό: Αποτελεσματική από πλευράς κόστους εναλλακτική λύση με μέτρια θερμική σταθερότητα και καλή γυαλισσιμότητα της επιφάνειας.

• Ποιότητα της επιφάνειας: Κατασκευασμένο με επίπεδα λ/10 έως λ/20 ώστε να εξασφαλίζεται ελάχιστη απόκλιση για επιχρίσεις ακριβείας.

Βασικές ιδιότητες

1. Οπτική επίπεδεια: επίπεδη επιφάνεια ≤ λ/10 (σε 632,8 nm), κρίσιμη για την ομοιόμορφη εναπόθεση λεπτού υλικού και την ελαχιστοποίηση της στρέβλωσης του κύματος.

2. Θερμική σταθερότητα: Ο χαμηλός συντελεστής θερμικής διαστολής (π.χ. 0,55 x 10−6/°C για λιωμένο πυρίτιο) αποτρέπει την παραμόρφωση κατά τη διάρκεια διεργασιών υψηλών θερμοκρασιών όπως CVD ή sputtering.

3. Χημική αντοχή: Αδιάδραστη στα οξέα, τα πλάσματα και τους διαλύτες, εξασφαλίζοντας αντοχή σε επιθετικά περιβάλλοντα αποθέσεων.

4. Ομοιογένεια επιφάνειας: Η ομοιομορφία του δείκτη διάθλασης (±5 x 10−6) αποτρέπει τις οπτικές στρεβλώσεις στις επικαλυμμένες ταινίες.

5. Μηχανική αντοχή: Υψηλή σκληρότητα (Mohs 5·7) αντέχει στις γρατσουνιές κατά τη μεταχείριση και την επεξεργασία.

Λειτουργία

• Υπόστρωμα λεπτής ταινίας: Παρέχει μια εξαιρετικά επίπεδη, σταθερή βάση για την κατάθεση επικαλύψεων (αντιαντανάκλαση, διηλεκτρική, μεταλλική).

• Συνδυασμό διαδικασιών: συμβατό με τις τεχνικές PVD, CVD, ALD και sputtering, εξασφαλίζοντας ομοιόμορφη πρόσφυση και πάχος του φιλμ.

• Αναφορά μετρολογίας: χρησιμεύει ως πρότυπο βαθμονόμησης για τα παρεμβολικά και τα προφίλ επιφάνειας λόγω της ακριβούς επίπεδης φύσης.

Εφαρμογές

• Κατασκευή ημιαγωγών: Φωτομάσκες, καθρέφτες λιθογραφίας EUV και οπτικές συσκευές MEMS.

• Βιομηχανία οπτικής: Φιλτράρια με επικάλυψη, διαχωριστικά δέσμης και οπτική λέιζερ που απαιτούν ακρίβεια σε επίπεδο νανομέτρου.

• Έρευνα & Ανάπτυξη: Νανοτεχνολογία, φωτονική και κβαντικά πειράματα υπολογιστών.

• Αεροδιαστημική και Άμυνα: Αισθητήρες ακριβείας, δορυφορική οπτική και συστήματα καθοδήγησης με λέιζερ.

• Ιατρικές συσκευές: Οπτικές επικαλύψεις για συστήματα απεικόνισης, ενδοσκόπια και εξοπλισμό διάγνωσης.